1.四层手术部整个层面的建筑装修装饰改造工程。

2.四层手术部的净化空调系统的设备采购。制作及安装工程。

3.四层手术部净化空调及中央空调冷热源所需及配套系统管道设备和材料的采购。安装由承包方完成。

4.四层手术部区域的氧气`负压吸引。压缩空气。和废气排放管道及终端的采购和安装工程式。

5.四层手术部及设备层的总配电柜。电线。桥架。照明，插座，开关等全套电气工程（其电源进线由院方从低压配电柜引来两路独立电源，双路切换功能由中标方完成）。

6.四层手术部区域，办公辅房区域的呼叫系统设施采购及安装工程。

7.四层手术部区域的背景音乐及公共广播系统设施采购及安装工程。

8.四层手术部区域的网络系统的设计，采购及安装工程。

9.四层手术部手术室内气体吊顶的设计，采购及安装工程。

10.四层手术部手术室部分消防设施的安装

       凡是房建类设计规划，无论是哪类用房装修，都是在确保一系列基本配置的基础上进行规划及设计。半导体行业洁净车间也不例外，涉及此类范畴的，也并非只是单纯地对生产车间空间面积、墙顶地的涂装和管道铺设工程进行设计。那么半导体行业洁净室是如何规划设计的呢？

       一、信息的对接工作

       1、对接建筑基础资料信息

包括了解厂房各楼层尺寸面积、层高、有无承重柱、出入口位置等信息，同时还需要了解厂房现有洁净等级。

       2、对接生产线及生产工艺信息

       了解生产设备、作业工作台、生产流水线的尺寸大小及摆放位置；生产原料、半成品及成品的摆放位置与占地面积需要；明确人货通道、工作面积、车间内所需操作人员数量等需求。

       3、明确企业后期生产规划信息及预算费用信息

      提前了解企业研发生产的规划，便于提前做好准备，预留合适的后期升级改造空间；明确企业装修设计预算，在合理范围内进行设计规划。

       二、设计规划工作

       一般来说，半导体洁净室对洁净等级要求都较高，施工难度也随之增加。需要依据室内温湿度、产线所需洁净度、压差排风、照度风量等数据进行合理设计。如静电对半导体行业产品影响较大，会降低良品率，而干燥的环境容易产生静电，因此半导体行业的洁净室内需要对温湿度合理控制，通常将温度设置在22℃左右，相对湿度控制在50%-60%这样的范围内，能有效防止静电产生，同时提升工作人员适宜度。

废气处理设备，主要是运用不同工艺技术，通过回收或去除减少排放尾气的有害成分，达到保护环境、净化空气的一种环保设备。

       处理原理：

       稀释扩散法

       净化工程原理:将有臭味地气体通过烟囱排至大气，或用无臭空气稀释，降低恶臭物质浓度以减少臭味。适用范围:适用于处理中、低浓度的有组织排放的恶臭气体。优点:费用低、设备简单。缺点:易受气象条件限制，恶臭物质依然存在。

       1、水吸收法

       净化工程原理:利用臭气中某些物质易溶于水的特性，使臭气成分直接与水接触，从而溶解于水达到脱臭目的。适用范围:水溶性、有组织排放源的恶臭气体。优点:工艺简单，管理方便，设备运转费用低 产生二次污染，需对洗涤液进行处理。缺点:净化效率低，应与其他技术联合使用，对硫醇，脂肪酸等处理效果差。

       2、曝气式活性污泥脱臭法

       净化工程原理:将恶臭物质以曝气形式分散到含活性污泥的混和液中，通过悬浮生长的微生物降解恶臭物质 适用范围广。适用范围:截至2013年，日本已用于粪便处理场、污水处理厂的臭气处理。优点:活性污泥经过驯化后，对不超过极限负荷量的恶臭成分，去除率可达99.5%以上。缺点:受到曝气强度的限制，该法的应用还有一定局限。

       3、多介质催化氧化工艺

       净化工程原理:反应塔内装填的固态填料，填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层，与通过喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触，并在多介质催化剂的催化作用下，恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围:适用范围广，尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气，对疏水性污染物质有很好的去除率。优点:占地小，投资低，运行成本低;管理方便，即开即用。缺点:耐冲击负荷，不易污染物浓度及温度变化影响，需消耗一定量的药剂。